光刻版清洗机SMC-350F
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产品特点
- 设备应用14寸以下光罩(Mask)和Retical清洗制程
- 触控人机搭配PLC的软件控制，对各制程步骤进行参数控制
- 马达控制系统，转速可达3000rpm, 转速精度2rpm
- 化学品摆臂清洗系统
- DIWater正/背面清洗系统
- 高转速旋干系统
技术参数
产品特点
技术参数
