全自动光刻机M-200/M-300

产品特点

• 本设备使用目的将基板和掩模版对位后将掩模上的图形转印到基板
• 主要用于化合物半导体、功率器件、MEMS(微机电)、先进封装、晶圆光学显示等领域的光刻应用
• 光刻设备包括成熟的曝光光学系统和高精度的对准系统,且具有灵活的配置选项，满足客户的工艺要求
• 产品从科研开发设备，到全自动生产设备

技术参数