无掩膜光刻机(LDI)DL-1000/MPC-1000
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产品特点
- 高产能、高精度，符合先进封装工艺
- 主要用于先进封装、化合物半导体、功率器件、MEMS(微机电)、晶圆
- 光刻设备包括成熟的曝光光学系统和高精度的对准系统，且具有灵活的
- 配置选项，满足客户的工艺要求，产品从科研开发设备，到全自动生产设备
技术参数
产品特点
技术参数
