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半导体设备
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单晶圆清洗机SWC-3008/SWC-3012
用于半导体晶圆制造中主要工艺前，后的清洗或蚀刻，可适用于栅极氧化前 清洗，光刻胶清除、多晶硅清除和蚀刻等环节。单晶圆清洗可有效防止药液 污染。采用较短的喷淋时间就可以获得好的清洗效果，不会发生交叉污染， 降低化学品的消耗。¥ 0.00立即购买
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晶圆清洗机CS-200/CS-300
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无掩膜光刻机(LDI)DL-1000/MPC-1000
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全自动光刻机M-200/M-300
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光刻版清洗机SMC-350F
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Foup清洗机FC-300
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